制冷加熱循環(huán)器是指為反應釜、槽等提供熱源和冷源的循環(huán)裝置，具有加熱和制冷雙功能的實驗室儀器設備。我公司生產(chǎn)的高低溫循環(huán)器是指導熱介質(zhì)在封閉的循環(huán)系統(tǒng)中循環(huán)對所需物體進行加熱或者冷卻，也就是所謂建立第二恒溫場所，主要用于化工、制藥和生物等領域配套玻璃反應釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、發(fā)酵罐、量熱儀；廣泛應用于石油、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學合成等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質(zhì)檢部門。

       智能控制系統(tǒng)（常規(guī)型）：智能控制系統(tǒng)采用自整定PID算法，能夠適用各種環(huán)境、各種設備，控溫精度高。設備具有溫度校正功能，比普通溫控器測溫更準確。醒目的控制面板，操作簡單快捷。

       制冷加熱循環(huán)器合適在反應過程中有需熱、放熱過程控制，準確線性控制釜內(nèi)物料溫度，能夠選擇程序控制形式，導熱介質(zhì)和物料的溫差也可設定，整個高低溫一體機系統(tǒng)采用全密閉式循環(huán)，高溫時不會產(chǎn)生油霧，低溫時不會吸收水分，系統(tǒng)中有收縮罐，在制冷加熱過程中導熱介質(zhì)熱脹冷縮。

       制冷加熱循環(huán)器的典型應用主要有：高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、資料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制等溫控控制中。